簡(jiǎn)介

高真空磁控離子濺射鍍膜機(jī)是材料科學(xué)和樣品制備的理想選擇。它廣泛用于廣大高校和科研院所的材料科學(xué)與工程鍍膜,用于金屬、陶瓷、半導(dǎo)體、絕緣體或其他各種膜材料的制備。

高真空磁控離子濺射鍍膜機(jī)提供最穩(wěn)定的濺射環(huán)境,在極短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到磁控濺射的基本實(shí)驗(yàn)條件。提供DC/RF兩種濺射功率選擇,可在試樣上濺射導(dǎo)電或非導(dǎo)電物質(zhì),提高物理氣相沉積(PVD)性能。它也非常適合表面處理和涂層。它易于操作,對(duì)用戶極其友好。

鍍膜儀包含有真空泵和冷卻器。

 

參數(shù)

真空泵

(泵油)旋轉(zhuǎn)真空泵+(免油)渦輪分子泵組

旋轉(zhuǎn)真空泵轉(zhuǎn)速

50 Hz:16m3/h (4.4L/s)/60 Hz:19.2m3/h (5.2L/s)

分子泵轉(zhuǎn)速

300 L/s

極限真空度

5x10-5Pa

工作壓力

0.5-5 Pa

抽真空時(shí)間

>10 Min(10-3Pa)

真空測(cè)量

測(cè)量范圍從大氣壓到 1*10-6Pa

氣體控制

氣體流量控制閥

腔體尺寸

φ260*200mm (高) 金屬 

磁控靶源

靶尺寸φ50*3mm(Cu)/濺射靶源: 弱磁性物質(zhì)/材料

操作方法

操作手冊(cè)

重量/尺寸

100kg/610mm長(zhǎng)x420mm寬x490mm高

電源

AC 110V 60Hz 或 AC 220V 50Hz

電源功率

<3000W

冷卻方式

風(fēng)冷(泵)+水冷(濺射靶)

質(zhì)量保證

一年有限質(zhì)量保證/保修/支持 


圖片 1.png圖片 2.png

圖片 3.png圖片 4.png

圖片 5.png圖片 6.png

圖片 7.png





TMAXCN Cooperative Brand and TMAXCN Group Employees
Tags:

首頁(yè)

產(chǎn)品

公司介紹

聯(lián)系我們