簡介

磁控離子濺射裝置和熱蒸發(fā)碳鍍膜機是實驗室SEM樣品制備的理想選擇。SD900C 型號(磁控離子濺射裝置)廣泛用于在非導電或熱敏 SEM 樣品上鍍Au以獲得更好的成像效果。它還非常適合表面處理,避免損壞基板樣品。

SD900C型號(熱蒸發(fā)碳單元)碳涂層機在樣品表面涂上薄薄的導電碳膜。將此涂層應用于非導電樣品是一種有效的制備技術(shù),可減少用于SEM分析的充電電子偽影。

使用合適的真空泵,5分鐘內(nèi)即可快速達到工作真空壓力。它對用戶友好且易于操作。

鍍膜儀包括真空泵,冷卻器是可選配。(用于磁控離子濺射裝置)


參數(shù)

真空泵

(泵油)旋轉(zhuǎn)真空泵

旋轉(zhuǎn)真空泵轉(zhuǎn)速

50 Hz : 8 m3/h (2.2 L/s)/ 60 Hz :9.6m3/h (2.6 L/s)

極限真空度

2Pa

最大濺射電流

100mA

最大蒸發(fā)電流

100A

濺射工作壓力

20Pa-8Pa

工作真空壓力

6Pa-4Pa

真空測量

測量范圍從大氣壓到2*10-2mbar

氣體控制

氣體流量控制閥

腔體尺寸

Φ150*120mm (長)抗刮石英玻璃 

磁控靶源

靶尺寸 φ50*0.1mm(金)/濺射靶源: 金、銀、鉑

蒸發(fā)靶源

濺射材料:碳繩/濺射靶源:碳繩

操作方法

操作手冊

(2單位)重量/(1單位)尺寸

55kg/360mm長x300mm寬x380mm高

電源

AC 110V 60Hz 或 AC 220V 50Hz

能量消耗

<2000W

冷卻方式

風冷(泵)+ 水冷(濺射靶)

質(zhì)量保證

一年有限質(zhì)量保證/保修/支持 


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